Entiendo la diferencia entre los dos en términos de cómo funcionan; uno liberará toda su energía en pequeños pulsos y el otro creará un flujo constante de radiación.
Mi pregunta es para el procesamiento de materiales como el marcado o el corte. ¿Por qué usaría uno sobre el otro?
Los láseres pulsados liberan su energía en pulsos muy cortos que pueden tener poderes pico increíblemente altos . Un láser de nanosegundos común y corriente tendrá una potencia máxima en el rango de varios kilovatios, mientras que un láser de femtosegundos puede alcanzar fácilmente el rango de megavatios. Por el contrario, los láseres CW generalmente no alcanzan niveles de potencia superiores a unos pocos cientos de vatios.
Cuando estos láseres pulsados se enfocan a un tamaño de punto pequeño, la intensidad es generalmente lo suficientemente alta como para alterar significativamente el estado molecular del material a través de procesos no térmicos como la ablación. Estos procesos no térmicos son útiles para crear características muy pequeñas porque tienen una 'zona afectada por el calor' más pequeña . Las potencias de pico muy altas también pueden hacer uso de la absorción no lineal en materiales que de otro modo serían transparentes (y, por lo tanto, no podrían ser procesados por esa longitud de onda).
Por el contrario, la energía de un láser CW fuertemente enfocado se deposita en escalas de tiempo lo suficientemente largas como para que el material simplemente se caliente y se derrita. Esto puede ser más útil para procesos como la soldadura.